Изготовление фотошаблонов для проведения фотолитографических процессов при изготовлении изделий микроэлектроники, пленочной электроники, микромеханики, микрофлюидики.
Фотошаблоны изготавливаются на высокотехнологичном оборудовании методами безмасочной литографии с использованием лазеров либо электронного луча.
Параметры фотошаблонов
Размеры пластин: 102х102 мм, 127х127 мм
Материал подложки
- плавленный кварц
- щелочное стекло
Покрытие
- хром
- окись железа
Масштаб
- для контактной литографии: 1:1
- для проекционной литографии: 10:1, 5:1, 4:1
Размеры
Минимальный размер на фотошаблоне (мкм) | Допуск на размер (±мкм) | Совмещение (мкм) | Дефекты (мкм) |
| 0,5-0,7 | 0,05 – 0,08 | ≥ 0.10 | ≥ 0.20 |
| 1-2 | ≥ 0,1 | ≥ 0.10 | ≥ 0.20 |
| 2,5-5 | ≥ 0,2 | ≥ 0.10 | ≥ 0.50 |
| >5 | ≥ 0,2 | ≥ 0.10 | ≥ 0.50 |
Информационные файлы в форматах:
dwg, dxf, gds II, sou, ldb, cif … и другие CAD форматы по согласованию.